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2007 年 8 月 24 日 星期 放大 缩小 默认        

诺基亚“时尚创意展”首站登陆成都

  

  近日,诺基亚携手中国五位新锐艺术家,将主要城市举办系列时尚盛事“角度至上——城市,艺术家,时尚创意展”,其首站即将于8月31日至9月2日在成都拉开帷幕。

  在为期三天的展览期间,拥有国际声誉的成都画家高瑀将现场展出他的城市角度时尚艺术作品。以“钻石切割工艺设计”为设计主题,并融合成都独特的城市细节。

  在重庆地区,诺基亚与本报联手悬红征集时尚创意的活动正在进行中。

  在重庆指定的诺基亚零售店,只要你提供时尚角度照片,都可以在店面领取精美小礼品。还可以通过登陆http://campaign.nokia.com.cn/7500/,加入此次诺基亚“角度至上——城市,艺术家,时尚创意展”年度时尚事件,提交城市角度时尚元素,参与城市时尚作品的发现和创作之旅。

  要求很简单,只需要把你认为代表时尚的照片上传到网上就可参与评选,将有机会赢取诺基亚7500手机。

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